無論是手提電話、平板電腦，抑或錯綜複雜的信息系統，都離不開芯片。究竟這小小芯片在今天的科技發展上扮演着什麼角色，令世界各國都在爭相競逐呢？
2納米芯片帶來「四天一充」
芯片其實是把很大數量的微電晶體整合到一個小晶片，所以也被稱為集成電路。最近IBM已成功研製出2納米芯片，意味將500億個晶體管塞進指甲蓋大小的芯片上。這技術上的突破能降低75%的能源耗損，將電池使用時間延長四倍，為手機用戶帶來「四天一充」的體驗。
芯片可屢次突破樽頸，極紫外光（EUV）光刻機可謂功不可沒。EUV光刻機被形容為全球最複雜的機器，利用高能量、波長短的極紫外光在晶圓上進行雕刻，將光罩上的電路圖案轉印到晶圓的光阻劑塗層。現在芯片的製造往往以納米作為單位，指的是電晶體電流通道的寬度。寬度越窄，傳遞信號的速度就越快，芯片效能便得以提升。所以芯片在沒有光刻機的情況下無法正常生產，一點也不誇張。
中國仍需急起直追
2020年中國集成電路產業規模達到8848億元，並且是全球最大集成電路的市場。然而，中國現時仍集中在14及28納米的芯片進行規模生產，而7納米的芯片仍處於試產階段。此外，中國目前最先進的是28納米的深紫外線（DUV）光刻機，跟荷蘭製造商阿斯麥（ASML）生產的13.5納米極紫外光（EUV）光刻機，在技術上仍有一段距離。EUV光刻機對光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，還需要真空環境，逼近了物理學、材料學以及精密製造的極限。故此，無論是光刻機的研發抑或是芯片的生產，中國仍要急起直追。
打壓下反能茁壯成長
技術上的良性競爭促進業界向前邁進，但政治的打壓卻窒礙了芯片業的健康發展。在今年七月，美國拜登政府延續了特朗普禁止對華出口高科技產品的政策，要求荷蘭政府限制ASML出口EUV光刻機給中國。荷蘭政府順應扣下了對中國的出口許可，因為美國白宮有權限制由美國生產的光刻機零件供應給ASML。
面對美國的圍堵，中國只能沉着應對。雙工件台、EUV光源和EUV光學鏡頭分別為EUV光刻機的最重要三個部件，科研人員已經成功實現了EUV光源的技術突破，中國自主研發的高能光源，已經達到了世界最先進的第四代同步輻射光源水準！至於技術難點更大的EUV光學鏡頭，中國首次獲得了高精度納米量級膜層鍍膜工藝，而無論是核心零部件抑或生產整個設備的系統，全部都是中國自主研發。
「路漫漫其修遠兮，吾將上下而求索。」中國在科研路上屢受外國打壓已不是新鮮事，但相信憑科研人員堅定不移的精神，中國在芯片及光刻機的發展很快便會創造出另一彎道超車的奇跡。
政賢力量時事評論委員會主席 王偉傑
