【大公報訊】記者趙一存北京報道：內地3日發布最新修訂的《集成電路布圖設計保護條例》，該條例將於2026年10月15日起施行。據悉，該條例此番修訂為2001年出台之後20餘年來首次系統性修改，新增集成光子、量子等新型集成電路布圖設計保護範疇，明確侵權賠償按權利人實際損失、侵權人獲利或許可使用費倍數釐定，增設懲罰性賠償機制。

據悉，本次修訂明確擴展保護範圍，破解前沿新型集成電路知識產權確權難、保護難的行業痛點。同時，新規確立清晰的權利界定標準，明確受保護布圖設計以登記的複製件、圖樣為準，獨創性聲明則可以作為獨創性判定解釋依據，進一步釐清權利邊界。

在侵權追責層面，新規大幅強化保護力度，細化賠償核定規則。明確侵權賠償數額優先按照權利人實際損失或侵權人違法獲利確定，兩項標準難以界定的，可參照布圖設計許可使用費倍數合理核算。而針對惡意侵權、情節嚴重的行為，可適用懲罰性賠償，賠償額度提升至1倍以上5倍以下，同時涵蓋權利人為維權支出的合理開支，全方位壓實侵權責任。

保護知產 激發研發主體積極性

針對此番發布的新修訂條例，國家工業信息安全發展研究中心知識產權所副所長黃蘊華表示，2001年版條例僅聚焦傳統電子運算集成電路，已無法適配當下光子、量子芯片等前沿技術的發展需求。她認為，當前光電融合、量子集成等新技術快速迭代，新型芯片設計突破傳統技術範疇，原有法律界定存在保護盲區。

黃蘊華指出，此次修訂是對產業技術變革的前瞻性回應，通過立法明確新型集成電路布圖設計的合法保護地位，從制度層面化解新型芯片知識產權確權、維權難題。同時，新規完善的侵權賠償、成果激勵、權利流轉規則，能夠有效激發研發主體創新積極性。